特許

J-GLOBAL ID：200903046968249652

電子線描画装置

発明者： 依田 晴夫 ,  冨▲吉▼ 力生
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059902
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267142
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】電子線描画装置の電子線偏向器の偏向領域間での接続精度を向上する。【構成】図1に示すように、描画すべき図形データを複数の偏向領域に分割して入力データに変換する際、偏向領域の外周が隣接する領域に重なるように分割し、その重なる部分に含まれる図形がある場合、それをそれぞれの偏向領域のデータとし、重なる回数に応じて電子線照射時間の短縮を行い、描画において偏向領域の重なる部分の図形とそうでない部分の図形の照射料を等しくするように描画する。【効果】描画時間を低下すること無く偏向領域間での接続精度が向上する。

請求項（抜粋）：

電子線を電磁レンズ及び絞りによって所望の電流密度と形状に制御し、高精度位置決め機構を有する試料移動台上に固定された電子線感光剤を塗布した固体表面上に、上記電子線を偏向器を用いて所望の位置に偏向し、所定の時間照射するいわゆる電子線描画装置において、描画すべき図形データを予め複数の偏向領域に分割して電子線描画装置の入力データに変換する際、偏向領域の外周が隣接する偏向領域と重なるように分割し、その重なる部分に含まれる図形をそれぞれの偏向領域のデータとし、重なる回数に応じて電子線照射時間の短縮を行い、最終的に重なる領域に位置する図形の照射量とその図形に接続して隣接する偏向領域に位置する図形の照射量を等しく描画するように一回もしくは多重描画を行うことを特徴とした電子線描画装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 341 K ,  H01L 21/30 341 J ,  H01L 21/30 341 D