特許
J-GLOBAL ID:200903046979458253

ビーム治療装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 猪股 祥晃
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-069410
公開番号(公開出願番号):特開平7-275381
出願日: 1994年04月07日
公開日(公表日): 1995年10月24日
要約:
【要約】【目的】本発明は、シンクロトロンから出射されるビームを治療系で必要とするビームになるように制御すると共に、治療系の構成を簡単化・小型化したビーム治療装置を提供することにある。【構成】本発明は、粒子ビームを癌等の被照射部に照射する治療系から構成されるビーム治療装置において、シンクロトロンから出射された時間変化するビームのエネルギーを一度最高エネルギーまで加速した後ビームのエネルギーを下げながら治療に有効なエネルギーのビームを出射するように制御する第1制御手段と、前記シンクロトロンから出射された時間変化するビームのエネルギーに相当する磁場に前記ビーム輸送系の電磁石の励磁量を制御する第2制御手段を備えているので、治療系の構成を従来に比べ簡単化・小型化することができ、かつ治療準備のための労力を大幅に削減できる。
請求項(抜粋):
中性子,陽子,ヘリウム,アルゴン等の粒子をイオン化し、加速する入射器と、前記入射器で生成された粒子ビームを加速するシンクロトロンと、前記シンクロトロンから出射された粒子ビームを被照射部まで誘導するビーム輸送系と、前記粒子ビームを癌等の被照射部に照射する治療系から構成されるビーム治療装置において、前記シンクロトロンから出射された時間変化するビームのエネルギーを一度最高エネルギーまで加速した後ビームのエネルギーを下げながら治療に有効なエネルギーのビームを出射するように制御する第1制御手段と、前記シンクロトロンから出射された時間変化するビームのエネルギーに相当する磁場に前記ビーム輸送系の電磁石の励磁量を制御する第2制御手段を備えたことを特徴とするビーム治療装置。

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