特許

J-GLOBAL ID：200903046985647360

断熱被膜形成方法

発明者： アドリアン・モーリス・ベルトラン ,  ロバート・スコット・シャルボイ ,  ユクチュー・ロー
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 生沼 徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-325561
公開番号（公開出願番号）：特開平6-235074
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】【目的】 金属基体上に断熱被膜を形成するための方法を提供する。【構成】 (a) 金属基体10上に冶金的結合層12を設置し、(b) 結合層上に第1のジルコニア層14を設置し、次いで(c) 第1のジルコニア層上に第2のジルコニア層16を設置する工程を含む。工程(b) および(c) を実施する際に基体の温度を制御することによって第1のジルコニア層に実質的にゼロの有孔率を付与しかつ第2のジルコニア層に約10〜20%の有孔率を付与する。

請求項（抜粋）：

(a) 金属基体上に冶金的結合層を設置し、(b) 緻密な柱状のミクロ組織を示す第1のジルコニア層を前記結合層上に設置し、次いで(c) 10〜20%の有孔率を有するミクロ組織を示す第2のジルコニア層を前記第1のジルコニア層上に設置する工程を含むことを特徴とする、金属基体上に断熱被膜を形成する方法。

IPC (2件)：

C23C 28/00 ,  C23C 4/10