特許
J-GLOBAL ID：200903046992093744
XAFS測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-375355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188052
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：
【要約】【課題】 試料に加わる圧力が変化する状態下でのXANES及びEXAFSを測定することが可能であるXAFS測定装置を提供する。【解決手段】 湾曲分光結晶2に入射するX線Rの入射角度θを変化させることによって試料Sに入射するX線のエネルギを変化させながら、試料Sに入射するX線の強度及び試料Sを透過したX線の強度をX線検出器12,13によって測定し、それらの強度に基づいて試料Sに関する吸光度の変動を測定するXAFS測定装置において、試料加圧制御装置9によって試料Sに加わる圧力を変化させながら測定を行う。
請求項（抜粋）：
試料に入射するX線のエネルギを変化させながら、該試料に入射するX線の強度及び該試料を透過したX線の強度をX線検出器によって測定し、それらの強度に基づいて該試料の特定元素に関する吸光度の変動を測定するXAFS測定装置において、前記試料に加わる圧力を変化させる試料加圧制御手段を有することを特徴とするXAFS測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
2G001AA01
, 2G001BA11
, 2G001BA13
, 2G001CA01
, 2G001DA01
, 2G001EA01
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001JA07
, 2G001JA12
, 2G001JA14
, 2G001JA20
, 2G001KA12
, 2G001PA07
, 2G001PA30
, 2G001RA03
, 2G001SA07
