特許

J-GLOBAL ID：200903046992518141

ホウ素選択吸着樹脂から溶離されるホウ素含有溶離液の処理方法及びホウ素溶離液回収装置

発明者： 木谷 仁紀 ,  早川 智
出願人/特許権者： 日本電工株式会社
代理人 (1件)： 白木 大太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032590
公開番号（公開出願番号）：特開2002-233864
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：

【要約】【課題】 ホウ素を含む排水を処理して得られたN-メチルグルカミン基を有するホウ素選択吸着樹脂に鉱酸を通液してホウ素溶離液を回収する際に生ずる夾雑物混入の問題を解決し、後続工程に純度の高いホウ素溶離液を供給できる手段を提案する。【解決手段】 ホウ素を含む排水を処理して得られたN-メチルグルカミン基を有するホウ素選択吸着樹脂に鉱酸を通液してホウ素溶離液を回収するに当たり、前記回収を行う期間を少なくとも2以上に分割し、夾雑物の少ない期間の溶離液のみをホウ素回収用溶液とするものであり、特に夾雑物の少ない期間を溶離液のpHの変動により定めることを好適とする。

請求項（抜粋）：

ホウ素を含む排水を処理して得られたN-メチルグルカミン基を有するホウ素選択吸着樹脂に鉱酸を通液してホウ素溶離液を回収するに当たり、前記回収を行う期間を少なくとも2以上に分割し、夾雑物の少ない期間の溶離液のみをホウ素回収用溶液とすることを特徴とするホウ素選択吸着樹脂から溶離されるホウ素含有溶離液の処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/28 ,  C01B 35/02 ,  C02F 1/42

FI (3件)：

C02F 1/28 A ,  C01B 35/02 ,  C02F 1/42 B

Fターム (15件)：

4D024AA09 ,  4D024AB14 ,  4D024BA17 ,  4D024BB01 ,  4D024BB07 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4D024DA04 ,  4D024DA08 ,  4D025AA09 ,  4D025AB05 ,  4D025BA15 ,  4D025BB02 ,  4D025CA01 ,  4D025DA02