特許

J-GLOBAL ID：200903047004284242

ロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置

発明者： 越前 裕 ,  藤岡 靖 ,  酒井 明 ,  青池 達行 ,  吉野 豪人 ,  杉山 秀一郎 ,  金井 正博
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140276
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349745
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 安定な放電を維持しながら、大面積にわたって高品位且つ均質な半導体膜を、高速で形成可能なロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置を提供する。【構成】 真空容器に内蔵された角柱状の成膜室102を備えるロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置であって、成膜室に向かって方形導波管104、円形導波管105、誘電体円板の順に取り付けられたマイクロ波アプリケーター103と、該アプリケータと成膜室の1側面との間に設けられ、誘電体円板の成膜室側の面上に、その端部がほぼ密着し且つ方形導波管の長辺側の面に平行に配置された複数の金属板と、成膜室の上蓋を構成する帯状基板と、成膜室の底面または側面に列状に設けられたガスノズルと、成膜室の側面または底面に列状に設けられた排気孔と、から構成される。

請求項（抜粋）：

真空容器に内蔵された角柱状の成膜室を備えるロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置であって、前記成膜室に向かって方形導波管、円形導波管、誘電体円板の順に取り付けられたマイクロ波アプリケーターと、該アプリケーターと前記成膜室の1側面との間に設けられ、前記誘電体円板の前記成膜室側の面上に、その端部がほぼ密着し且つ前記方形導波管の長辺側の面に平行に配置された複数の金属板と、前記成膜室の上蓋を構成する帯状基板と、前記成膜室の底面または側面に列状に設けられたガスノズルと、成膜室の側面または底面に列状に設けられた排気孔と、から少なくとも構成されることを特徴とするロール・ツー・ロール型マイクロ波プラズマCVD装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  C23C 16/54