回転式基板処理装置および基板回転保持装置ならびにその設計方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-023581
公開番号（公開出願番号）：特開平10-216606
出願日： 1997年02月06日
公開日（公表日）： 1998年08月18日
要約：

【要約】【課題】基板の端縁を保持する保持部に起因する気流の乱れにより基板の素子形成領域に処理むらを生じさせることのない回転式基板処理装置、基板回転保持装置および基板回転保持装置の設計方法を提供する。【解決手段】基板回転保持装置は底板5の上面に環状部材6を有し、環状部材6の表面に基板支持ピン8および基板保持ピン7を備える。基板保持ピン7は基板Wの外周に沿い、かつ基板保持ピン7が生じさせる気流の乱れが素子形成領域に及ばないように素子形成領域の外形領域から離れた位置に配置される。基板保持ピン7は基板Wの素子形成領域のパターンに応じてその取付け位置が変更可能に形成されている。制御部は基板保持ピン7が基板Wの予め定めた位置になるように基板回転保持装置の回転停止位置を調整する。

請求項（抜粋）：

基板の裏面を支持する支持部および前記基板の水平位置を規制する複数の保持部を有し、基板を水平に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を鉛直方向の軸の周りで回転駆動する駆動手段と、前記駆動手段を制御する制御手段とを備え、前記複数の保持部は、前記基板の素子形成領域のパターンに対して予め定められた位置関係を有し得るように配置され、前記制御手段は、前記基板保持手段に保持される基板の前記素子形成領域のパターンと前記複数の保持部とが前記予め定められた位置関係を有するように前記駆動手段を制御することを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (3件)：

B05C 11/08 , H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (4件)：

B05C 11/08 , H01L 21/68 N , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 C

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