特許

J-GLOBAL ID：200903047007482681

インライン式成膜装置、成膜方法及び液晶素子

発明者： 岡田 健
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-115128
公開番号（公開出願番号）：特開2002-309372
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 省スペースで、必要キャリヤー数が少なく、メンテナンス性も良いインライン式成膜装置と、それを用いて、内部応力や比抵抗が低く、透過率が高いといった優れた特性を持つ、カラーフィルタに適した透明導電膜を成膜する透明導電膜成膜方法と、該成膜方法を用いて作製された高性能なカラーフィルタを使用した液晶素子と、を提供する。【解決手段】 インライン式成膜装置において、リターン室を真空に保ち、且つ成膜処理された基板上の薄膜の結晶化を促進する熱処理を行うための加熱手段を備え、成膜室とリターン室とは真空状態を保つ形態で連設しておく。

請求項（抜粋）：

真空の成膜室の一方の端である開始部から他方の端である終了部に基板を搬送する間に該基板に成膜処理を施し、成膜処理の終了した前記基板を前記終了部から前記開始部の近傍へと搬送するリターン室を有するインライン式成膜装置であって、前記リターン室は、真空に保たれ、且つ成膜処理された前記基板上の薄膜の結晶化を促進する熱処理を行うための加熱手段を備えていること、前記成膜室と前記リターン室とは真空状態を保つ形態で連設されていること、を特徴とするインライン式成膜装置。

IPC (6件)：

C23C 14/56 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/58 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/1343

FI (7件)：

C23C 14/56 G ,  C23C 14/56 H ,  C23C 14/34 C ,  C23C 14/58 A ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G02F 1/1343

Fターム (28件)：

2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA45 ,  2H048BA64 ,  2H048BB01 ,  2H048BB14 ,  2H048BB44 ,  2H091FA02Y ,  2H091FC01 ,  2H091FC29 ,  2H091GA03 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15 ,  2H092HA04 ,  2H092MA05 ,  2H092MA35 ,  2H092PA08 ,  4K029AA09 ,  4K029BA50 ,  4K029BC09 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DA01 ,  4K029DC05 ,  4K029DC28 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01 ,  4K029KA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• カラ-フィルタの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-281207   出願人：株式会社東芝
• インライン式成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-087056   出願人：日本鋼管株式会社, 大日本インキ化学工業株式会社
• インライン式成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-099648   出願人：アネルバ株式会社