特許
J-GLOBAL ID:200903047020002966

ホログラムの作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-147449
公開番号(公開出願番号):特開平8-016083
出願日: 1994年06月29日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】【目的】 容易に作製が可能となるホログラムの作製方法を提供する。【構成】 エキシマレーザ10から出射したレーザ光は円筒レンズ12および曲面ミラー13とから成るビーム整形光学系14により円弧状に整形され、マスク16を通して、透明基板18に照射される。このとき、レーザ光のエネルギにより透明基板18の材料である樹脂を構成する分子の結合が解離され、透明基板18の表面が加工される。これによりマスク16に形成されているホログラムパターンと同一のパターンを透明基板18の表面に深さ1μm程度の凹凸の形状で容易に作製することができる。
請求項(抜粋):
所定のホログラムパターンが形成されたマスクにレーザ光源から出射されたレーザ光を照射し、そのマスクを通過したレーザ光が透明基板の表面に照射されることにより、前記透明基板の表面に前記ホログラムパターンに対応した凹凸を形成することを特徴とするホログラムの作製方法。

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