特許
J-GLOBAL ID：200903047023006806
狭帯域ファイバ型光カプラ製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-019512
公開番号（公開出願番号）：特開2002-221635
出願日： 2001年01月29日
公開日（公表日）： 2002年08月09日
要約：
【要約】【課題】帯域幅10nm以下の狭帯域ファイバ型光カプラを歩留まり良く、かつ、小型に製造することができる狭帯域ファイバ型光カプラ製造装置を提供する。【解決手段】狭帯域ファイバ型光カプラ作製の加熱源として用いられる炭酸ガスレーザビームの発生手段と、該炭酸ガスレーザビームに加熱対象のファイバ上を走査させるための走査機構と、前記ファイバの両端部を保持して左右独立に駆動可能な一対の延伸機構と、該延伸機構の中間位置に該ファイバの撓みを防止するために配置された保持機構と、該ファイバの加熱位置を選択するためのファイバ加熱位置選択機構とを備えていることを特徴とする構成を有している。
請求項（抜粋）：
狭帯域ファイバ型光カプラ作製の加熱源として用いられる炭酸ガスレーザビームの発生手段と、該炭酸ガスレーザビームに加熱対象のファイバ上を走査させるための走査機構と、前記ファイバの両端部を保持して左右独立に駆動可能な一対の延伸機構と、該延伸機構の中間位置に該ファイバの撓みを防止するために配置された保持機構と、該ファイバの加熱位置を選択するためのファイバ加熱位置選択機構とを備えたことを特徴とする狭帯域ファイバ型光カプラ製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/28 A
, G02B 6/28 B
