特許
J-GLOBAL ID：200903047058298850
ウェーハ膜厚測定装置、ウェーハ膜厚測定方法およびウェーハ研磨装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-222265
公開番号（公開出願番号）：特開平7-311019
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1995年11月28日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハ研磨加工中にインプロセスで高精度の膜厚測定が行えるウェーハ膜厚測定装置・方法およびウェーハ研磨装置を提供する。【構成】 ウェーハ保持ヘッド8で保持されたウェーハWの下面に光照射部から発信する光を照射し、反射光を受信して膜厚を測定する光干渉型膜厚測定機構24と、光照射部とウェーハ下面の間に介装される洗浄機構26とを具備する。洗浄機構26は、上面が開口しウェーハ下面の近傍に配置される洗浄液容器27と、容器27の底部48に形成された光透過部50と、ウェーハ下面の測定個所に洗浄液を吹き付けるウェーハ洗浄ノズル40と、光透過部50に洗浄液を吹き付ける光透過部洗浄ノズル44と、これらに洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えている。
請求項（抜粋）：
ウェーハ表面に形成された膜の厚さを、光干渉法によって測定するためのウェーハ膜厚測定装置であって、光照射部から発信する光を光透過部を通じてウェーハ成膜面に照射し、その反射光を前記光照射部で受信してその干渉を検知することにより膜厚を測定する光干渉型膜厚測定機構と、一端側に開口部を有しこの開口部の周縁がウェーハ成膜面に近接して配置されるとともに、その他端側の底部を貫通して、前記光干渉型膜厚測定機構の前記光透過部がウェーハの膜厚測定箇所に対向配置されている液体充填容器と、前記光を通過可能な液体を、前記液体充填容器の内部に加圧供給するための液体供給手段と具備することを特徴とするウェーハ膜厚測定装置。
IPC (5件)：
G01B 11/06
, B24B 37/04
, B24B 49/12
, G01B 11/02
, H01L 21/304 321
