光導波路の製造方法及びその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶原康稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-116512
公開番号（公開出願番号）：特開平10-293220
出願日： 1997年04月19日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】レーザを用いて高精度で所望形状の加工を行うことができる生産性のよい光導波路の製造方法及びその装置を提供する。【解決手段】レーザ発振器から出力されたレーザ光は、所定の光学系による光学的な処理の際に、マスク16に入射する。このマスク16には、ビームBSの高強度領域PC内に位置するように窓18が形成されている。このため、マスク16を透過したレーザビームは、強度分布が強く均一となる。このようなレーザビームが基板14に照射されると、基板14はビーム形状に対応した良好な形状に加工され、かつ、凹部20に筋状の跡が出るなどの不都合が生ずることなく、綺麗に精度よく導波路を形成することができる。

請求項（抜粋）：

レーザ手段から出力されたレーザビームによって導波路の加工を行う光導波路の製造方法において、前記レーザビーム中の強度が均一の領域に対応する形状であって、導波路の加工形状を考慮した窓が形成されたマスクを用い、このマスクを透過したレーザビームによって導波路の加工を行うことを特徴とする光導波路の製造方法。

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