特許
J-GLOBAL ID:200903047090900686

半導体集積回路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 尾身 祐助
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-047237
公開番号(公開出願番号):特開平6-244387
出願日: 1993年02月12日
公開日(公表日): 1994年09月02日
要約:
【要約】【目的】 ハードマクロ化されたマクロブロックから不要パターンを削除して、回路の高速化と消費電力の低減化を図る。【構成】 マクロブロック1の出力端子13〜17に記号a〜eを付与し、入力側に遡って、配線線分、構成ブロック2〜6に、関係のある出力端子の記号を付与していく。このマクロブロックを用いた回路設計の結果不使用となった出力端子があった場合には、不使用となった出力端子に付された記号のみを有する配線線分、構成ブロックを削除する。
請求項(抜粋):
複数の構成ブロックを有しレイアウトパターンの確定しているマクロブロックを用いて回路を構成し、その結果不使用となるマクロブロックの出力端子を抽出し、不使用となった出力端子とのみ関連する配線線分および構成ブロックのパターンをマクロブロックから削除し、残された配線および構成ブロックのパターンを有するマクロブロックを用いて回路を作成することを特徴とする半導体集積回路の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-140885
  • 特開平4-167181
  • 特開昭58-028864

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