特許
J-GLOBAL ID：200903047097609057
基板端縁洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-037201
公開番号（公開出願番号）：特開平5-200350
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：
【要約】【目的】 角型基板に形成された薄膜への悪影響を回避しながら、洗浄液を残存させることなく角型基板の周端面の不要薄膜を良好に洗浄除去できるようにする。【構成】 回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板1を、鉛直方向の軸芯周りで回転可能な基板保持手段2で載置保持し、その角型基板1の裏面側に洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄除去する洗浄液ノズル3と、角型基板1の裏面側の角部にガスを供給して残存付着物を吹き飛ばすガスノズル24とを設け、角型基板1の裏面を洗浄するとともに裏面側の角部の残存付着物を除去する。
請求項（抜粋）：
回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板と一体回転自在に設けられて、前記角型基板の裏面に洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄除去する洗浄液ノズルと、前記角型基板の裏面側で角部にガスを供給して残存付着物を吹き飛ばすガスノズルと、を備えた基板端縁洗浄装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B05C 9/12
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
