特許

J-GLOBAL ID：200903047099245389

パターン形成方法、この方法を用いる電子ビーム描画装置およびその方法を用いて作製される光学部品

発明者： 川北 聡
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193389
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023880
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 強磁性元素を含有する基板材料に対しても、所定の設計パターンを形成することができるパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 設計パターン32に対する加工パターン33の各点の変動データを測定し、これら両パターン間において満たし得る関係式を求めた後、その逆関数を上記設計パターンに作用させることによって、変動後に上記設計パターンに合致するような補正パターンを導出する。したがって、この補正パターンに従って描画を行えば、その加工パターンが上記設計パターンにほぼ一致するので、所定の設計パターンを高い精度で形成可能となる。

請求項（抜粋）：

電子ビーム露光法を用いて基板上に設計パターンを加工するパターン形成方法であって、前記設計パターンに従って描画した実際の加工パターンの前記設計パターンに対する変動データを測定するステップと、前記変動データに基づいて前記設計パターンを補正し、その補正パターンを算出するステップとを有し、前記基板上への描画を前記補正パターンに従って行うようにしたことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (7件)：

H01L 21/30 541 D ,  G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03F 1/16 B ,  G03F 1/16 E ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B

Fターム (21件)：

2H049AA31 ,  2H049AA40 ,  2H049AA44 ,  2H049CA15 ,  2H049CA28 ,  2H095BA08 ,  2H095BB01 ,  2H095BB31 ,  2H095BD03 ,  2H095BD23 ,  2H095BD28 ,  2H097CA16 ,  2H097FA06 ,  2H097LA10 ,  5C034BB05 ,  5C034BB10 ,  5F056AA22 ,  5F056BA08 ,  5F056BC04 ,  5F056BC10 ,  5F056CC01