特許

J-GLOBAL ID：200903047107774620

光磁気ディスクの製造方法と光磁気ディスク

発明者： 横山 隆一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-295316
公開番号（公開出願番号）：特開平6-150411
出願日： 1992年11月04日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、長期安定な記録再生が可能な高品質光磁気ディスクの製造方法とその製造方法による光磁気ディスクを提供することを目的とする。【構成】 基板7上に光磁気記録膜5、紫外線硬化型樹脂3及びスタンパ1を重ね、前記樹脂3の硬化後スタンパ1を剥離して保護膜を形成する方法において、スタンパ1が紫外線透過可能材料であり、スタンパ1と樹脂3が接する面にあらかじめ潤滑剤2を塗布することを特徴とする製造方法、その他の製造方法を構成するとともにそれらの製造方法で製造された光磁気ディスクを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板上に光磁気記録膜を有し、該記録膜上に紫外線硬化型樹脂及びスタンパを重ね合せ、前記硬化型樹脂の硬化後、スタンパを剥離して保護膜を形成する方法において、スタンパが紫外線を透過可能な材料であり、スタンパの前記硬化型樹脂と接する面に、あらかじめ潤滑剤を塗布したことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。