特許
J-GLOBAL ID:200903047124156167
描画データ変換方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-243615
公開番号(公開出願番号):特開平5-082425
出願日: 1991年09月24日
公開日(公表日): 1993年04月02日
要約:
【要約】【目的】 基板のサイズ、配線パターンのサイズや種類の制約を受けず、CADシステムより出力されているフォトプロッタ用コードから、電子ビームで描画するための描画データに変換を行うことを目的とする。【構成】 そのままでは、描画不可能なパターンを直線パターン及びランドパターンで置き換える置換処理機能と、電子ビームの最大偏向範囲を越えるパターンをフィールドつなぎ部分で分割する分割処理機能とを有し、これらの機能を効果的に組合せて、CADシステムより出力されているフォトプロッタ用コードを電子ビームで描画するためのパターンに変換する手順から構成される。【効果】 従来から存在するフォトプロッタ用データから、電子ビーム描画装置用の描画データが必要最小限度の容量で得られる。
請求項(抜粋):
配線パターンが複数のフィールドにまたがるとき、前記配線パターンをフィールドのつなぎ部分で分割し、各フィールド毎に描画できるようなパターンにする分割処理、並びに前記フィールドとその外側に設定されている電子ビーム最大偏向領域間の距離が(前記配線パターン/2)の長さよりも小さいとき、及び電子ビーム描画装置が描画する機能を持っていない配線パターンのときに描画できない配線パターンを直線パターンとランドパターンとで近似させて置き換える置換処理を含むことを特徴とする描画データ変換方法。
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