特許
J-GLOBAL ID：200903047134672945
還元鉄または鉄カーバイドの製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
角田 嘉宏 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-025327
公開番号（公開出願番号）：特開平11-222616
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】【課題】 流動層炉から排出された微粉の反応率を効果的に向上しうる還元鉄または鉄カーバイドの製造装置を提供すること。【解決手段】 多室に分割された流動層炉1の上方に、粉粒体を含有するガスからその粉粒体を分離するためのサイクロン9を配している。流動層炉1の頂部からサイクロン9を経由して流動層炉1の特定の分割室に至る経路10a、10b、10cを有している。サイクロン9によってガスから分離した一定以上の粒径の粉粒体を上記経路を経由して流動層炉1に戻す。
請求項（抜粋）：
多室に分割された流動層炉内に投入された含鉄粉粒体原料を炉内下部に導入した反応ガスにより流動させつつ反応を行って還元鉄または鉄カーバイドを製造する装置であって、粉粒体を含有するガスからその粉粒体を分離するための1台または複数のセパレータを流動層炉の上方に配し、流動層炉の頂部から上記セパレータを経由して再び流動層の特定の分割室に至る経路を有し、セパレータによってガスから分離した一定以上の粒径の粉粒体を上記経路を経由して流動層炉に戻すことを特徴とする還元鉄または鉄カーバイドの製造装置。
IPC (3件)：
C21B 13/00 101
, C01B 31/30
, F27B 15/00
C21B 13/00 101
, C01B 31/30
, F27B 15/00
