特許
J-GLOBAL ID:200903047145157813

排ガス浄化用触媒

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-339567
公開番号(公開出願番号):特開平10-174866
出願日: 1996年12月19日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】【課題】PdとRhそれぞれの元素のもつ性能を十分に発現させる。【解決手段】少なくともPdを担持してなる第1触媒層2と、第1触媒層2の表面に形成され少なくともRhを担持した第2触媒層3とよりなり、第1触媒層2における担体単位重量当たりのPdの担持量を第2触媒層3における担体単位重量当たりのRhの担持量より多くした。Pdは下層の第1触媒層に担持されているので被毒成分がPdと接触するのが抑制され、Rhは低密度で担持されているのでシンタリングによる活性低下が抑制される。
請求項(抜粋):
第1多孔質担体に少なくともパラジウムを担持してなる第1触媒層と、該第1触媒層の表面に形成され第2多孔質担体に少なくともロジウムを担持した第2触媒層とよりなり、該第1触媒層における該第1多孔質担体単位重量当たりの該パラジウムの担持重量は、該第2触媒層における該第2多孔質担体単位重量当たりの該ロジウムの担持重量より多いことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (5件):
B01J 23/46 311 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 21/16 ZAB ,  B01J 23/44
FI (6件):
B01J 23/46 311 A ,  B01J 21/16 ZAB A ,  B01J 23/44 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 A ,  B01D 53/36 104 A
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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