特許

J-GLOBAL ID：200903047146964160

エッチング液

発明者： 小松 利夫 ,  高嵜 在
出願人/特許権者： ザ・インクテック株式会社
代理人 (1件)： 吉田 勝広 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-374399
公開番号（公開出願番号）：特開2001-188362
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】 半導体集積回路の製造に使用する石英ガラス等のガラス基板からなるフォトマスクを製造するために使用するエッチング液。【解決手段】 直鎖のフッ化炭素基を有するパーフルオロアルキルスルホン酸塩60〜82重量部と、分岐鎖のフッ化炭素基を有するパーフルオロアルキルスルホン酸塩18〜40重量部との混合物を含有することを特徴とするエツチング液。

請求項（抜粋）：

直鎖のフッ化炭素基を有するパーフルオロアルキルスルホン酸塩60〜82重量部と、分岐鎖のフッ化炭素基を有するパーフルオロアルキルスルホン酸塩18〜40重量部との混合物(以下「A成分」という)を含有することを特徴とするエツチング液。

IPC (3件)：

G03F 7/40 521 ,  C23F 1/10 ,  H01L 21/308

FI (3件)：

G03F 7/40 521 ,  C23F 1/10 ,  H01L 21/308 F

Fターム (17件)：

2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096HA18 ,  2H096JA04 ,  4K057WA10 ,  4K057WB20 ,  4K057WE02 ,  4K057WE30 ,  4K057WF01 ,  4K057WF10 ,  4K057WM03 ,  4K057WM04 ,  4K057WN10 ,  5F043AA26 ,  5F043BB18 ,  5F043BB28 ,  5F043GG10