特許

J-GLOBAL ID：200903047151224034

光触媒廃水処理方法

発明者： 田中 啓一 ,  安部 桂司 ,  久永 輝明
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-173863
公開番号（公開出願番号）：特開平5-337469
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：

【要約】【目的】 廃水中の有害物質を完全分解して無害化する。【構成】 廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の存在下で光照射し、有害物質を分解処理する廃水処理方法。

請求項（抜粋）：

廃水を酸化処理したのち、半導体触媒の存在下で光照射して有害物質を分解処理することを特徴とする廃水処理方法。

IPC (9件)：

C02F 1/32 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/06 ,  B01J 23/30 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/76 ,  C02F 1/78 ,  C02F 9/00