プラズマ閉込め装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田宮寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-211993
公開番号（公開出願番号）：特開2000-030896
出願日： 1998年07月10日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【解決手段】プラズマ閉込め装置はプラズマを閉込めるために使用されるプラズマ集中リング11を有し、プラズマ集中リングは、平行に配置される複数のドーナツ形状の水平な板11aによって構成され、任意の2つの隣合う水平な板の間には水平な狭い間隔25が設けられ、当該狭い間隔は、集中リングの内側から外側へ横方向に処理ガスが流れる通路を作る。

請求項（抜粋）：

プラズマ源でプラズマを閉込めるために使用されるプラズマ集中リングを備えるプラズマ閉込め装置であり、前記プラズマ集中リングは、内側から外側へ横方向でプロセスガスが流れる複数の通路を有するプラズマ閉込め装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , H05H 1/02 , C23C 14/34 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (7件)：

H05H 1/46 A , C23C 16/50 , H05H 1/02 , C23C 14/34 T , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (29件)：

4K029BD01 , 4K029DA06 , 4K029DC28 , 4K029DC35 , 4K030EA05 , 4K030FA03 , 4K030FA04 , 4K030KA15 , 4K030KA17 , 5F004AA13 , 5F004BA04 , 5F004BB13 , 5F004BB18 , 5F004BC08 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F004DA01 , 5F004DA16 , 5F004DB03 , 5F004EB01 , 5F045AA08 , 5F045BB14 , 5F045DP03 , 5F045EF02 , 5F045EH05 , 5F045EH06 , 5F045EH14 , 5F103AA08 , 5F103BB25

引用特許：

審査官引用 (8件)

プラズマ閉じ込めを使用するプラズマエッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-147040 出願人：ラムリサーチコーポレーション
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-308310 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平1-260799

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