特許
J-GLOBAL ID：200903047153036901
ワーク洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永田 良昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-145504
公開番号（公開出願番号）：特開平6-328052
出願日： 1993年05月24日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：
【要約】【目的】電気部品、電子部品、プレス部品等の高度な洗浄処理に用いることのできるワーク洗浄装置を提供する。【構成】炭化水素系溶剤を主成分とする一次洗浄液でプリント基板を洗浄処理した後、蒸留再生されたハイドロフルオロカーボンを主成分とする二次洗浄液中にプリント基板を浸漬し、二次洗浄液のキャビテーションによりプリント基板に付着した一次洗浄液を剥離除去する。この後、蒸留再生された不純物の少ない二次洗浄液の蒸気でプリント基板を蒸気洗浄するので、プリント基板の洗浄処理が効率よく行える。
請求項（抜粋）：
炭化水素系溶剤を主成分とする一次洗浄液によりワークを洗浄処理するワーク洗浄装置であって、上記一次洗浄液により洗浄処理されたワークを、不活性溶剤を主成分とする二次洗浄液によりワークを洗浄処理するワーク洗浄手段と、上記洗浄処理に使用された二次洗浄液を蒸留再生して、上記一次洗浄液が分離された二次洗浄液のみを洗浄工程に返還する蒸留再生手段とを備えたワーク洗浄装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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