特許

J-GLOBAL ID：200903047154058658

CADシステム

発明者： 山内 峰生
出願人/特許権者： 横河電機株式会社
代理人 (1件)： 小沢 信助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-183486
公開番号（公開出願番号）：特開平6-028425
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】【目的】 出図する面パターンのチェックに要する時間が短く、あらゆる形状の面パターンに対してもチェック漏れがなく、しかも塗りつぶしの不足部分とはみ出し部分の両方についてチェックできるCADシステムを実現することを目的とする。【構成】 設計上の面パターンを表した設計データをフォトプロッタに与え、フォトプロッタに面パターンを描かせることにより、出図する面パターンを作成するCADシステムにおいて、設計上の面パターンをメッシュデータ上に展開し、第1のメモリに格納する。また、出図する面パターンをメッシュデータ上に展開し、第2のメモリに格納する。ここで、第1及び第2のメモリからメッシュデータを読み出して画像処理演算を行い、出図する面パターンが設計上の面パターンに対してはみ出している部分と塗りつぶし不足になっている部分を検出する。そして、検出したはみ出し部分と塗りつぶし不足部分が許容値を超えているかどうかをチェックする。

請求項（抜粋）：

設計上の面パターンを表した設計データをフォトプロッタに与え、フォトプロッタに面パターンを描かせることにより、出図する面パターンを作成するCADシステムにおいて、前記フォトプロッタが用いるフォトペンの太さをもとに、前記出図する面パターンをシミュレーションにより作成する疑似描画パターン作成手段と、前記設計上の面パターンを2次元のメッシュデータに展開する第1の変換手段と、前記疑似描画パターン作成手段により作成した面パターンを2次元のメッシュデータに展開する第2の変換手段と、前記第1及び第2の変換手段により得た2次元のメッシュデータをそれぞれ格納する第1及び第2のメモリと、該第1及び第2のメモリに格納されたメッシュデータについて画像処理演算を行い、前記出図する面パターンが前記設計上の面パターンに対して、はみ出す部分と塗りつぶし不足を生じる部分を検出する比較手段と、この比較手段により検出した部分の寸法が許容値を超えているかどうかをチェックするチェック手段と、を具備したことを特徴とするCADシステム。