特許

J-GLOBAL ID：200903047161370799

リソグラフィ製造法、リソグラフィ投影装置、および製造したデバイス

発明者： ジョゼフ マリア フィンダース
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-100997
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329645
出願日： 2002年04月03日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：

【要約】【課題】 回路パターンの線間隔や線巾(クリティカル寸法)のピッチ異常を改善するリソグラフィ製造法および装置の提供。【解決手段】 リソグラフィ製造法では、第1のリソグラフィ投影装置の第1のリソグラフィ伝達関数に関する第1の情報を得る。この情報は、基準のための第2のリソグラフィ投影装置の第2のリソグラフィ伝達関数に関する第2の情報と比較される。第1の情報と第2の情報の差が計算される。次に、この差を最小限にするために必要な第1のリソグラフィ投影装置の機械設定の変更が、計算され、第1のリソグラフィ投影装置に適用される。その結果、第1のリソグラフィ投影装置と第2のリソグラフィ投影装置の間の、特徴誤差のピッチ依存性の整合が向上する。

請求項（抜粋）：

基板の目標部分にパターン形成したビームを投射するための投影システムを備える第1のリソグラフィ投影装置を用意する工程と、放射感応材料の層で少なくとも部分的に覆った基板を用意する工程と、放射システムを使用して放射の投影ビームを供給する工程と、パターン形成手段を用いて前記投影ビームの断面にパターンを与える工程と、前記投影システムを使用して、前記層の目標部分に前記パターン形成した放射のビームを投影して、投影された像を得る工程と、基準のための第2のリソグラフィ投影装置を用意する工程とを備えるリソグラフィ製造法において、前記放射感応層の前記投影された像から、第1のリソグラフィ伝達関数の空間周波数依存性についての第1の情報を得る工程と、前記第2のリソグラフィ投影装置を使用して、第2のリソグラフィ伝達関数の空間周波数依存性についての、基準のための第2の情報を得る工程と、前記第1の情報と前記第2の情報の差を計算する工程と、前記差を最小限にするように前記第1のリソグラフィ投影装置の機械設定のうちの少なくとも1つに適用するためのこれら機械設定の変更を計算する工程と、前記計算した機械設定の変更を適用する工程とを特徴とするリソグラフィ製造法。

Fターム (3件)：

5F046AA28 ,  5F046DA02 ,  5F046DA12