特許

J-GLOBAL ID：200903047164709266

水中のヒ素除去装置

発明者： 鈴木 菜穂子 ,  宮ノ下 友明 ,  古謝 江美子
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 畑中 芳実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-326811
公開番号（公開出願番号）：特開平10-165948
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】 吸着剤を用いて水中のヒ素を吸着除去する装置であって、残留ヒ素濃度の低い良質な処理水を長期間にわたって安定に得ることができるとともに、経済的にヒ素を除去することが可能な装置を提供する。【解決手段】 粗除去用吸着剤と、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤とを用い、粗除去用吸着剤により被処理水中のヒ素の粗除去を行った後、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤により被処理水中のヒ素の最終除去を行う。例えば、2つの塔8、10の内の通水方向上流側の塔8に粗除去用吸着剤として活性アルミナ4を充填するとともに、下流側の塔10にセリウム系吸着剤6を充填し、これら2つの塔8、10に被処理水を順次通水する。

請求項（抜粋）：

吸着剤を用いて水中のヒ素を吸着除去する装置であって、粗除去用吸着剤と、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤とを用い、粗除去用吸着剤により被処理水中のヒ素の粗除去を行った後、セリウム系吸着剤又はジルコニウム系吸着剤により被処理水中のヒ素の最終除去を行うことを特徴とする水中のヒ素除去装置。

IPC (5件)：

C02F 1/28 ZAB ,  B01J 20/06 ,  B01J 20/08 ,  B01J 20/20 ,  C02F 1/62 ZAB

FI (5件)：

C02F 1/28 ZAB B ,  B01J 20/06 A ,  B01J 20/08 A ,  B01J 20/20 A ,  C02F 1/62 ZAB Z