特許

J-GLOBAL ID：200903047195943445

マスク、レジスト及び露光方法

発明者： 山添 賢治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-132491
公開番号（公開出願番号）：特開2003-332196
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月21日
要約：

【要約】【課題】 光の波長以下の一括露光を容易に行える、特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質を用いたマスク、レジスト及び露光方法を提供することを目的とする。【解決手段】 特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質をエバネッセント光透光部に設けてあることを特徴としたエバネッセント光マスクを提供する。

請求項（抜粋）：

特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質をエバネッセント光透光部に設けてあることを特徴としたエバネッセント光マスク。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 1/16 A ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 D

Fターム (16件)：

2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025DA03 ,  2H095BA04 ,  2H095BA10 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26 ,  2H097CA15 ,  2H097FA10 ,  2H097GA45 ,  5F046AA25 ,  5F046BA01 ,  5F046BA10 ,  5F046CA10 ,  5F046CB17 ,  5F046JA22