特許
J-GLOBAL ID：200903047202794205
磁気記録媒体製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306191
公開番号（公開出願番号）：特開平6-131662
出願日： 1992年10月20日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 磁気的特性に優れ、耐候性の改善された高密度記録用蒸着磁気記録媒体を製造する。【構成】 キャン4の円柱面上にフィルム状基材3を巻装し、キャン4の回転により基材3を搬送する。磁性材料10を備える蒸発源11を電子ビームにより加熱して、磁性材料10の蒸気を発生し、基材3に蒸着する。蒸着中、最大入射角近傍に配設した第1のガス導入ノズル16、最小入射角近傍に配設した第2のガス導入ノズル17並びに第1と第2のガス導入ノズルの間にあり、且つ第1のガス導入ノズル16寄りに配設した第3のガス導入ノズル18から酸化性ガスまたは酸化性ガスと不活性ガスの混合ガスを基材3に向けて噴射する。
請求項（抜粋）：
真空槽内に配置された円柱状キャンの円柱面上にフィルム状の基材を掛け渡して搬送し、前記円筒状キャンの下方側に配置した磁性材料を蒸発させ、該蒸発による蒸気流の前記基材に対する入射角度の最大入射角及び最小入射角を規制する規制部により形成された開口部を介して該基材上に磁性薄膜を形成する磁気記録媒体製造方法において、酸化性ガス又は酸化性ガスと不活性ガスの混合ガスを、最大入射角を規制する前記規制部近傍に配設した第1のガス導入ノズルと、最小入射角規制部近傍に配設した第2のガス導入ノズルと、前記第1のガス導入ノズルと前記第2のガス導入ノズルとの間で且つ前記第1のガス導入ノズル寄りに配設した第3のガス導入ノズルとから前記基材表面に向けて噴射することを特徴とする磁気記録媒体製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
