特許

J-GLOBAL ID：200903047205963458

蒸着材料及び該蒸着材料を用いた光学薄膜の製造方法

発明者： 亀山 誠 ,  沢村 光治 ,  寺田 順司 ,  坂本 淳一 ,  菅原 登
出願人/特許権者： キヤノン株式会社 ,  株式会社オプトロン
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-066041
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264804
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 蒸着時に基板の温度を上げられないプラスチック等の基板に於いても、屈折率が2.0以上の光学薄膜が形成され、蒸着の際の製膜速度も充分な速さであり、かつ得られた光学薄膜の品質が高くなる様な、蒸着材料を提供する。【構成】 チタニウム(Ti)と酸素(O)のモル比A(O/Ti)が1.0〜1.75の酸化チタンと、酸化ジルコニウム(ZrO2)とを、チタニウム(Ti)とジルコニウム(Zr)とのモル比(Ti/Zr)が1.0〜4.0の割合で混合し、焼結又は溶融固化して蒸着材料を形成する。

請求項（抜粋）：

チタニウム(Ti)と酸素(O)のモル比A(O/Ti)が1.0〜1.75の酸化チタン(TiOA)と、酸化ジルコニウム(ZrO2)とを、チタニウム(Ti)とジルコニウム(Zr)とのモル比(Ti/Zr)が1.0〜4.0の割合で混合し、焼結又は溶融固化してなることを特徴とする蒸着材料。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-197867
  
• 特開昭55-038920