特許
J-GLOBAL ID：200903047207787673
CMP装置の研磨廃液の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-366689
公開番号（公開出願番号）：特開平11-188369
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：
【要約】【課題】 CMP装置から排出される研磨廃液中に混入している研磨屑等の粒子を効率良く沈降させて除去することが可能な研磨廃液の処理方法を提供する。【解決手段】 CMP装置1から排出される研磨廃液には、多量のウレタン樹脂からなる研磨布の研磨屑、微量のシリコンウエハの研磨屑、及び砥粒が混入している。この研磨廃液は、ポンプ2によって調整タンク3へ送られる。調整タンク3の中で、先ず、配管4を介して希硫酸が研磨廃液9に添加され、PHの値が6.5程度に調整される。次いで、研磨廃液9にシュウ酸アンモニウム及び酸化アルミニウム粉末が添加された後、研磨廃液9は調整タンク3からオーバーフローして第一分離槽8に貯められる。研磨廃液は、第一分離槽8の中で静置され、研磨屑等の粒子の凝集が進行する。この結果、凝集した粒子11は第一分離槽8の底に沈降し、浄化された上澄み液は放流される。
請求項（抜粋）：
懸濁粒子として、研磨布の研磨屑、被研磨物の研磨屑及び砥粒が混入している研磨廃液を、調整タンクに収容し、前記研磨廃液のPHを3以上、7以下の範囲に調整した後、前記研磨廃液中に、電解質塩及び酸化アルミニウム粉末を添加し、前記研磨廃液中に混入している懸濁粒子を酸化アルミニウム粉末を核にして凝集させて沈殿させることを特徴とするCMP装置の研磨廃液の処理方法。
IPC (5件)：
C02F 1/52
, B01D 21/01 102
, B24B 57/00
, C02F 1/58
, C02F 1/60
C02F 1/52 H
, B01D 21/01 102
, B24B 57/00
, C02F 1/58 A
, C02F 1/60
