残存触媒を実質的に含有しない無臭化ポリエ-テル変性ポリシロキサン組成物とその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河備健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-179433
公開番号（公開出願番号）：特開2000-026737
出願日： 1995年12月21日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【目的】残存触媒を実質的に含有しない無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物とその製造方法の提供。【構成】残存白金触媒が0.5ppm以下にまで除去された無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物は、末端に炭素-炭素二重結合を有するポリオキシアルキレンとヒドロポリシロキサンとのヒドロシリル化反応により合成されるポリエーテル変性ポリシロキサン組成物に、水素添加反応を行った後、濾過手段により該組成物中に残存する白金触媒を除去することによって提供される。【効果】本発明の残存触媒を実質的に含有しない無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物は、臭気および刺激性等が非常に少ない、かつ保存安定性に優れているので、皮膚化粧料等に用いられる。

請求項（抜粋）：

末端に炭素-炭素二重結合を有するポリオキシアルキレンとヒドロポリシロキサンとのヒドロシリル化反応により合成されるポリエーテル変性ポリシロキサン組成物であって、該組成物中に残存する白金触媒が0.5ppm以下にまで除去されていることを特徴とする、無臭化ポリエーテル変性ポリシロキサン組成物。

IPC (7件)：

C08L 83/12 , A61K 7/00 , A61K 7/027 , A61K 7/42 , A61K 7/48 , A61K 7/50 , C08G 77/46

FI (7件)：

C08L 83/12 , A61K 7/00 J , A61K 7/027 , A61K 7/42 , A61K 7/48 , A61K 7/50 , C08G 77/46

引用特許：

出願人引用 (3件)

特公昭56-005414
特公昭61-005486
特開平2-302438

審査官引用 (3件)

特公昭56-005414
特公昭61-005486
特開平2-302438

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