特許

J-GLOBAL ID：200903047220552472

プラズマ処理装置

発明者： 片山 克生
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-245892
公開番号（公開出願番号）：特開平6-069161
出願日： 1992年08月20日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：

【要約】【目的】 マイクロ波の伝播モード夫々に対して電界分布を均一化し、プラズマ密度の均一化を図る。【構成】 マイクロ波導入窓8をマイクロ波透過物質からなる円板部8a及びこれとレンズ部8bにて構成し、レンズ部8bの形状, 肉厚をx方向(H面方向)とy方向(E面方向)に対して夫々変化させるべくテーパ面8c,8c を構成する。

請求項（抜粋）：

マイクロ波導波管からプラズマ生成室へマイクロ波を導入するマイクロ波導入部分に、マイクロ波をプラズマ生成室に均一に導入すべくマイクロ波の伝播方向に垂直な面内であって直交する方向夫々の断面形状を異ならせた誘電体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-171720
  
• 特開平3-274696
  
• 特開平3-244123