特許
J-GLOBAL ID：200903047233744052
陰極スパッタリングによってプラズマを発生させるための装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-260197
公開番号（公開出願番号）：特開平6-240452
出願日： 1993年10月18日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：
【要約】【目的】陰極スパッタリングによってプラズマを生成するための装置に於いてより空間効率のよいスパッタ被覆処理の可能な装置を得る。【構成】この装置はマグネトロンと遮蔽金属シートを持つターゲットを具備する。これらの遮蔽金属シートの周りに、共通の中心軸を持つ2つのコイルが巻上げられ、その一方のコイルは直流電力源に、他方のコイルは高周波源に連結される。両方のコイルの磁界の協力によって、ヘリコン或いは電子サイクロトロン波が生じる。
請求項（抜粋）：
a)プラズマ・チャンバ(1)と、b)パワ-供給装置(15、16)に連結される電極(10)と連結されるプラズマ・チャンバ(1)内のターゲット(17)と、c)ターゲット(17)から出て、再びそれに入る磁界(18、19)を持つマグネトロン(5)と、d)ターゲット(17)の表面に垂直に延在し、ターゲット(17)の少なくとも2つの側面上に装備される遮蔽金属シート(22、23)、とを持つ、陰極スパッタリングによってプラズマを発生させるための装置であり、e)遮蔽金属シート(22、23)の周りに巻かれ、直流電圧電源(25)に連結される第1のコイル(24)と、f)第1のコイル(24)から或る間隔をとって配置され、好ましくはMHzの範囲で作動される高周波源(29)に連結される第2のコイル(28)、とを持つ事によって特徴ずけられる装置。
IPC (5件)：
C23C 14/34
, C23C 14/35
, H01L 21/203
, H01L 21/285
, H01L 21/31
