特許
J-GLOBAL ID：200903047249367550
粒子線装置におけるフォーカス調整装置
出願人/特許権者：
日本電子株式会社
日本電子株式会社 について
代理人 (1件)： 最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-114711
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313272
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】 最小の操作量で最適なフォーカス状態が容易に得られるようにした、粒子線装置におけるフォーカス調整装置を提供する。【解決手段】 電子銃から放出される電子線を試料14に照射して試料が発生するX線や2次的な電子等の2次線を検出する粒子線装置のフォーカス調整装置において、試料面上に照射される電子線の最小プローブ径を調整する集束レンズ系8や対物レンズ系12からなるフォーカス調整手段を備え、該フォーカス調整手段は、電子プローブの加速電圧やプローブ電流などのプローブ使用条件に基づく最小プローブ径に応じて、フォーカス調整量を変化させるように構成し、任意の電子プローブ使用条件に対して、最小の操作量で最適なフォーカス状態が容易に得られるようにする。
請求項（抜粋）：
細く絞った電子やイオン等の荷電粒子線を試料に照射して試料から発生する2次線を検出する粒子線装置において、試料面上に照射される粒子線のプローブ径を調整するフォーカス調整手段を備え、該フォーカス調整手段は、粒子線の最小プローブ径に応じてフォーカス調整量を変化させ、最小の操作量で最大の合焦度を得る機能をもつように構成されていることを特徴とする粒子線装置におけるフォーカス調整装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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