露光方法及び露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-017072
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217856
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】本発明は二次元の干渉露光を利用した露光方法及び露光装置に関し、マスクを用いることなく所望の周期的パターンを効率的に形成できる露光方法及び露光装置を実現することを目的とする。【構成】試料面11上に三つ以上の方向から入射角、振幅及び位相の調節された平面波の光I1 〜Im を照射する。試料面11上には二次元の繰り返しパターンの干渉縞を形成する。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布した試料面(11)上に、三つ以上の方向から入射角、振幅及び位相の調節された平面波の光(I1 〜Im )を照射し、該試料面(11)上に二次元の繰り返しパターンの干渉縞を形成して露光することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

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