特許

J-GLOBAL ID：200903047264723100

Cr膜を利用したガラス基板の溝形成方法及びインクジェットヘッドの製造方法

発明者： 田中 真一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-336184
公開番号（公開出願番号）：特開2002-145643
出願日： 2000年11月02日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 ガラス基板表面に溝を形成するための工数を削減可能にすること。また、複数回のパターニング形成を可能にすること。【解決手段】 ガラス基板5の表面5aに、所定厚さのCr膜14を形成し、当該Cr膜14に溝形成用のパターニングを施す。次に、パターニングに使用したレジスト膜を除去せずに、レジスト膜16及びCr膜14をマスクとして用いて、ガラスエッチング液により、ガラス基板5の露出表面部分5bをエッチングして、所定深さの溝10が形成されたガラス基板17を得る。従来のようなAu膜およびCr膜をマスクとして用いる代わりに、Au膜を削除し、レジスト膜及びCr膜をエッチングマスクとして用いる為、溝形成用の工数を大幅に削減できる。

請求項（抜粋）：

ガラス基板の溝形成用のパターニングが施されたレジスト膜及びCr膜で構成された積層膜をエッチングマスクとして用いて、ガラス基板の表面をウェットエッチングにより溝を形成することを特徴とするガラス基板の溝形成方法。

IPC (4件)：

C03C 15/00 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16

FI (3件)：

C03C 15/00 D ,  B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H

Fターム (16件)：

2C057AF93 ,  2C057AG54 ,  2C057AP33 ,  2C057AP52 ,  2C057AP57 ,  2C057AQ01 ,  2C057BA03 ,  2C057BA15 ,  4G059AA08 ,  4G059AB06 ,  4G059AB07 ,  4G059AB11 ,  4G059AB19 ,  4G059AC01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14