特許
J-GLOBAL ID：200903047270006223
パターン欠陥検査方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-200042
公開番号（公開出願番号）：特開2000-028334
出願日： 1998年07月15日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】はんだレジストが塗布されていない露出した銅ランド部や面付けパッド部の欠陥検査、シルク文字あるいはシルク線パターンの欠陥を検査する手法として好適な方法および装置を提供するものである。【解決手段】本構成によれば、複数のパターン層が積層して形成されている試料の各層パターンを個別に検査可能としている上、検査対象基板の歪み、伸縮、位置合わせ誤差量とは無関係に特徴量比較の検査基準を設定することが可能である。
請求項（抜粋）：
プリント配線板上に形成されたレジストパターンおよび配線パターン、あるいは印刷パターン上に励起光および照明光を照射する照明手段と、該励起光の照射により、プリント配線板上レジストより発生する蛍光画像と、該照明光の反射光画像とを各々波長分離して検出する画像検出手段と、該検出された画像を2値化し、画像処理によりレジストパターンあるいは配線パターンと印刷パターンとに分離抽出する画像処理手段と、該分離された各層パターンを所定の検査基準にて検査する欠陥判定手段と、該欠陥判定された結果を出力する手段とを具備することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01B 11/24 F
, G01B 11/24 K
, G01B 11/30 C
2F065AA03
, 2F065AA17
, 2F065AA21
, 2F065AA28
, 2F065AA56
, 2F065AA58
, 2F065CC01
, 2F065DD00
, 2F065EE00
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065GG21
, 2F065GG22
, 2F065LL04
, 2F065LL20
, 2F065QQ03
, 2F065QQ04
, 2F065QQ25
, 2F065QQ31
, 2F065QQ39
, 2F065QQ42
