特許

J-GLOBAL ID：200903047283018336

コポリマー及びその製法

発明者： レカイ ゼチ ,  ホルスト ボルンデルフアー ,  ヘルムート アーネ ,  ジークフリート ビルクレ ,  エバーハルト キユーン ,  ライナー ロイシユナー ,  エフア リツセル ,  ミヒアエル ゼバルト
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 富村 潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-353046
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009231
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：

【要約】【目的】 高解像能のレジスト用ベースポリマーとして使用することのできる新規のコポリマーを提供する。【構成】 不飽和カルボン酸の第三ブチルエステル40〜99モル%と不飽和カルボン酸の無水物1〜60モル%とからなる。

請求項（抜粋）：

不飽和カルボン酸の第3ブチルエステル(成分A)40〜99モル%と不飽和カルボン酸の無水物(成分B)1〜60モル%とから構成されていることを特徴とするコポリマー。

IPC (10件)：

C08F220/18 MMB ,  C08F212/32 MJY ,  C08F220/18 MLZ ,  C08F222/06 MJW ,  G03F 7/004 515 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027