特許
J-GLOBAL ID：200903047283427511
有磁場マイクロ波プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-061863
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267228
出願日： 1992年03月18日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】本発明は、高密度プラズマを生成し、プラズマ処理速度を増加させることができる有磁場マイクロ波プラズマ処理装置を提供しようとするものである。【構成】マイクロ波の電界のうち、磁場に垂直な成分のみが、プラズマの生成に関与する電子サイクロトロン共鳴に寄与するため、石英等の凸型レンズ10、あるいはプラズマを媒質とする凹型レンズにより処理室1内を伝播するマイクロ波の電界の方向が、磁場の方向に対して垂直となるようにした。
請求項（抜粋）：
マイクロ波および磁場を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置よりなるプラズマ処理装置において、処理室内を伝播するマイクロ波の電界が磁場の方向に対して垂直になるように処理室の窓部を構成したことを特徴とする有磁場マイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/205
