特許
J-GLOBAL ID：200903047285814024
斜光軸光学系を用いた位置検出装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-046527
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242037
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】 スループットを落とすことなく、露光中も位置検出が可能な高精度なアライメントを行うことができる位置検出方法及び装置を提供する。【解決手段】 ウエハとマスクをある間隔を隔てて対向させ、保持する。照明光学系が、保持されたウエハ及びマスクに照明光を照射する。ウエハ保持台に保持されたウエハの露光面に対して斜めの観測光軸を有する第1の観測光学系が、ウエハ及びマスクから反射もしくは散乱された光を第1の結像面に結像させる。第2の観測光学系が、第1の観測光学系の光軸上に配置された部分反射鏡により反射された光を第2の結像面に結像させる。第1の観測光学系と第2の観測光学系は異なる倍率を有する。
請求項（抜粋）：
ある間隔を隔てて対向配置したウエハとマスクとに照明光を照射する照明光学系と、前記ウエハの露光面に対して斜めの観測光軸を有し、前記ウエハ及びマスクから反射もしくは散乱された光を第1の結像面に結像させる第1の観測光学系と、前記第1の観測光学系の光軸上に配置された部分反射鏡により反射された光を第2の結像面に結像させ、前記第1の観測光学系とは異なる倍率を有する第2の観測光学系とを有する位置検出装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 510
, G03F 9/00 H
