特許

J-GLOBAL ID：200903047294874900

ビスフェノールの製造方法並びにビスフェノール

発明者： ヤン・ヘルマン・ヘンデリク・メウルス ,  フエイケ・デ・ヨング
出願人/特許権者： シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
代理人 (1件)： 川原田 一穂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-351537
公開番号（公開出願番号）：特開平5-271135
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 ビスフェノールの製造方法並びに中間体を提供する。【構成】 式(I)〔式中、Rは二価の炭化水素基を表す。〕のビスフェノールの製造方法において、第1工程において塩基性物質の存在下で2,6-ジ第3級ブチルフェノール又は2,6-ジ第3級アミルフェノールをジハロゲン化物Hal-R-Hal(ここで、Halはハロゲン原子でありそしてRは上記の意味を有する。)と反応させて式(II)〔式中、Aは第3級ブチル基又は第3級アミル基を表す。〕の中間体生成物にしそして第2工程において該中間体生成物を脱ブチル化又は脱アミル化する。

請求項（抜粋）：

化学式【化1】〔式中、Rは二価の炭化水素基を表す。〕のビスフェノールの製造方法において、第1工程において塩基性物質の存在下で2,6-ジ第3級ブチルフェノール又は2,6-ジ第3級アミルフェノールをジハロゲン化物Hal-R-Hal(ここで、Halはハロゲン原子でありそしてRは上記の意味を有する。)と反応させて化学式【化2】〔式中、Aは第3級ブチル基又は第3級アミル基を表す。〕の中間体生成物にしそして第2工程において該中間体生成物を脱ブチル化又は脱アミル化することを特徴とする上記方法。

IPC (7件)：

C07C 39/16 ,  B01J 23/04 ,  C07C 37/18 ,  C07C 37/50 ,  C07C 39/21 ,  C07C 39/23 ,  C07B 61/00 300