特許

J-GLOBAL ID：200903047295133491

プラズマデイスプレイ基板の厚膜パターン形成方法

発明者： 藤井 英明
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-205583
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128966
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 生産性を改善すると共に歩留りを向上させ、かつ良好な線幅精度を得るようにする。【構成】 基板1の上に予めパターン形成材料2を所定の膜厚で塗布し、所望パターンに応じたサンドブラスト用マスク6を介してサンドブラスト7により不要部分を除去することで目的パターンを形成する。1回の操作により100μm以上のパターンが得られる。サンドブラスト用マスク6は、フォトレジスト3をフォトリソグラフィー法により加工して形成することができ、これにより高精細パターンの対応ができる。

請求項（抜粋）：

プラズマディスプレイの基板上に障壁パターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜厚で塗布し、所望パターンに応じたサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とするプラズマディスプレイ基板の障壁パターンを得ることを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。

IPC (2件)：

H01J 9/14 ,  H01J 9/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-301934
  
• 特開平3-294180
  
• 特開平3-086477