基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-044893
公開番号（公開出願番号）：特開平11-239758
出願日： 1998年02月26日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：

【要約】【課題】基板を回転保持する部材に付着した処理液のミストによる基板の汚染が防止された基板処理装置を提供する。【解決手段】基板保持部1の回転部材11は、基板Wを支持する複数の支持ピン14と基板Wの水平位置を規制する回転式保持ピン15とを備え、モータ3の回転軸2の上端に固定されて回転駆動される。回転部材11は金属の表面にフッ素系樹脂コーティングを施したもの、あるいはアルミニウム母材の表面にニッケル-ポリテトラフルオロエチレンめっきを施したもの等が用いられる。回転式保持ピン15のピン固定部17、磁石収納部19および取り付け部材22はポリプロピレン等の撥水性樹脂から形成されており、固定部17および磁石収納部19と取り付け部材22との隙間A,Bは0.5mm以上1.0mm以下に調整されている。

請求項（抜粋）：

基板を回転させつつ基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、回転自在な回転部材と、基板の外周部に沿うように前記回転部材上に設けられ、基板の外周端部に当接して基板を保持する複数の保持部材と、前記回転部材を回転駆動する駆動手段と、前記複数の保持部材により保持された基板に処理液を供給する処理液供給手段とを備え、前記複数の保持部材により保持された基板の表面に対向する前記回転部材の表面が撥水性を有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B05C 11/08 , G03F 7/30 502 , H01L 21/027

FI (3件)：

B05C 11/08 , G03F 7/30 502 , H01L 21/30 569 C

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