特許
J-GLOBAL ID：200903047303175506
荷電粒子治療装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高崎 芳紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-106209
公開番号（公開出願番号）：特開平5-277197
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：
【要約】【目的】 荷電粒子を用いた治療装置において、荷電粒子の患者での軌跡を制御して、病巣部への集中的な照射を実現したい。【構成】 患者を挟んで荷電粒子軌跡制御用の磁界をかけて、病巣部へ荷電粒子を照射させる。この場合、磁界は、荷電粒子毎、及びその軌跡毎に予め設定した磁界(磁束)パターンに従って行う。
請求項（抜粋）：
患者の病巣部への照射用荷電粒子を放出する照射ヘッドと、患者内の荷電粒子軌道を制御して病巣部への集中照射を行わせる磁場印加手段と、より成る荷電粒子治療装置。
引用特許：
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