特許

J-GLOBAL ID：200903047307968837

半導体基板の洗浄方法

発明者： 沖 一郎
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 岸本 瑛之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-149496
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343380
出願日： 1992年06月09日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：

【要約】【目的】 化学薬品を使用した一連の半導体基板の洗浄処理における最終工程に使用する純水中の不純物が基板表面に付着するのを防止し、これにより基板の汚染を防止する。しかも、この半導体基板の表面に自然酸化膜が生成するのを防止する。【構成】 化学薬品を使用した一連の半導体基板Wの洗浄処理における最終の純水による洗浄工程を、HF1〜100ppmおよびHCl1〜100ppmを含む純水を用いて行う。

請求項（抜粋）：

化学薬品を使用した一連の半導体基板の洗浄処理における最終の純水による洗浄工程を、HF1〜100ppmおよびHCl1〜100ppmを含む純水を用いて行うことを特徴とする半導体基板の洗浄方法。