特許

J-GLOBAL ID：200903047314965720

画像形成装置

発明者： 常見 宏一 ,  上原 勤 ,  大杉 之弘
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東京電気株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-004700
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188695
出願日： 1992年01月14日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 被露光面の汚染を解消して常に高品質の画像を形成し得る背面露光式の画像形成装置の提供を目的とする。【構成】 実質的に光透過性である導電性支持体およびこの導電性支持体上に設けられた光導電性層から成る像保持体と、前記像保持体の導電性支持体側から前記光導電性層に光ビームを照射して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像を現像する現像装置とを具備して成る画像形成装置において、前記像保持体の側面部に、前記導電性支持体の被露光面を汚染する汚染物質の侵入防止手段を付設、もしくは前記導電性支持体の被露光面が表面抵抗1010Ω以下の導電性を有し、または前記導電性支持体の被露光面をクリーニングするクリーニング手段を付設したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

実質的に光透過性である導電性支持体およびこの導電性支持体上に設けられた光導電性層から成る像保持体と、前記像保持体の導電性支持体側から前記光導電性層に光ビームを照射して静電潜像を形成する露光手段と、前記静電潜像を現像する現像装置とを具備して成る画像形成装置において、前記像保持体の側面部に、前記導電性支持体の被露光面を汚染する汚染物質の侵入防止手段を付設したことを特徴とする画像形成装置。

IPC (6件)：

G03G 15/00 115 ,  B41J 29/17 ,  G03B 27/52 ,  G03G 15/00 101 ,  G03G 21/00 111 ,  G03G 21/00 119

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特公平3-074736