無水フタル酸の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-550839
公開番号（公開出願番号）：特表2002-516319
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：

【要約】高めた温度で、固定床中で、分子状酸素を含有するガスを用いておよび坦体材料からなる触媒のコアに触媒活性金属酸化物からなる層が塗布されている、少なくとも3個の層に重ね合わせて配置されたシェル触媒を使用してキシレンおよび/またはナフタレンの接触気相酸化により無水フタル酸が製造される。前記方法において、触媒活性が層から層へ、ガス導入側からガス排出側に上昇し、その際個々の層の触媒活性を、最も低い活性の触媒が次の層の触媒より少ない量の活性組成物および場合により付加的にドーパントとしてカリウム、ルビジウムおよびセシウムからなる群から選択されるより多くのアルカリ金属を含有し、これに続くなおより活性の触媒が第2の層の触媒と同じ量の活性組成物およびドーパントとしてなおより少ないアルカリ金属を含有するかまたは第2の層の触媒より多くの量の活性組成物および場合によりドーパントとしてより少ないアルカリ金属を含有するように調節し、ただしa)非孔質坦体材料上の最も低い活性の触媒が全部の触媒に対して活性組成物5〜9質量%を含有し、活性組成物はV2O53〜8質量%、Sb2O30〜3.5質量%、P0〜0.3質量%、アルカリ金属(金属として計算して)0.1〜0.5質量%およびバランスとして18〜22m2/gのBET表面積を有するアナターゼ型のTiO2を含有し、b)次のより活性の触媒が1〜5質量%(絶対)だけ高い活性組成物を含有し、アルカリ金属含量が0〜0.25質量%(絶対)だけ少ないほかは触媒(a)と同じ組成を有し、c)最も活性の触媒が(a)より1〜5質量%(絶対)だけ高い活性組成物を含有し、アルカリ金属含量が(a)より0.15〜0.4質量%(絶対)だけ少ないほかは触媒(a)と同じ組成を有することを条件とする。

請求項（抜粋）：

高めた温度で、固定床中で、分子状酸素を含有するガスを用いてかつ坦体材料からなる触媒のコアに触媒活性金属酸化物からなる層が塗布されている、少なくとも3個の層に重ね合わせて配置されたシェル触媒を使用してキシレンおよび/またはナフタレンの接触気相酸化により無水フタル酸を製造する方法において、触媒活性が層から層へ、ガス導入側からガス排出側に上昇し、その際個々の層の触媒活性を、最も低い活性の触媒が次の層の触媒より少ない量の活性組成物および場合により付加的にドーパントとしてカリウム、ルビジウムおよびセシウムからなる群から選択されるより多くのアルカリ金属を含有し、これに続くなおより活性の触媒が第2の層の触媒と同じ量の活性組成物およびドーパントとしてなおより少ないアルカリ金属を含有するかまたは第2の層の触媒より多くの量の活性組成物および場合によりドーパントとしてより少ないアルカリ金属を含有するように調節し、ただしa)非孔質坦体材料上の最も低い活性の触媒が全部の触媒に対して活性組成物5〜9質量%を含有し、活性組成物はV2O53〜8質量%、Sb2O30〜3.5質量%、P0〜0.3質量%、アルカリ金属(金属として計算して)0.1〜0.5質量%および残部として18〜22m2/gのBET表面積を有するアナターゼ型のTiO2を含有し、b)次のより活性の触媒が1〜5質量%(絶対)だけ多い活性組成物を含有し、アルカリ金属含量が0〜0.25質量%(絶対)だけ少ないほかは触媒(a)と同じ組成を有し、c)最も活性の触媒が(a)より1〜5質量%(絶対)だけ多い活性組成物を含有し、アルカリ金属含量が(a)より0.15〜0.4質量%(絶対)だけ少ないほかは触媒(a)と同じ組成を有することを特徴とする、無水フタル酸を製造する方法。

Fターム (5件)：

4C037RB04 , 4C037RB09 , 4C037RB10 , 4C037RB14 , 4C037RB20

引用特許：

審査官引用 (18件)

特開平4-114745
特公昭43-020448
特許第69492号

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