特許

J-GLOBAL ID：200903047326093582

液体噴射記録ヘッドの製造方法および該製造方法により製造された液体噴射記録ヘッド

発明者： 長谷川 利則 ,  稲葉 正樹 ,  石松 伸 ,  伊東 美紀 ,  後藤 顕 ,  古川 雅朗 ,  斎藤 昭男
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-257512
公開番号（公開出願番号）：特開平11-138822
出願日： 1998年08月27日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：

【要約】【課題】 樹脂ブランクにエキシマレーザ光の照射により吐出口の加工を行なう際に、ブランク表面へ付着する副生成物による樹脂表面の親水化を特別な工程を設けることなく抑制し、製品製造のスループットを高め、印字品位を向上させることができる液体噴射記録ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 液体噴射記録ヘッドを構成する天板の吐出口プレート21にレーザ光Lを照射して吐出口である穴を一括アブレーション加工する際に、加工部に近接して配置したノズル25から、フッ素原子を構造中に持つガス状分子26を加工部に吹き付けながら加工する。ガス状分子26は、レーザ光の照射により、反応性の高いフッ素原子を発生させ、この反応性の高いフッ素原子によって、レーザ光Lの照射により発生する副生成物24を化学的に表面修飾処理し、副生成物表面のフッ素化を図り、副生成物の付着による親水化を抑制する。

請求項（抜粋）：

コヒーレントなレーザ光を光源とし、 マスクを使用し、 該マスクの像を光学系を用いて吐出口プレートに投影し、 前記吐出口プレートに液体を吐出する吐出口となる穴を一括アブレーション加工する液体噴射記録ヘッドの製造方法において、前記吐出口プレートの液体吐出側の面に撥水層を形成する工程と、前記吐出口プレートの撥水層形成面側をフッ素原子を含む雰囲気にした状態で、 前記吐出口プレートの前記撥水層形成面の裏面側から前記レーザ光を照射して前記アブレーション加工をすることにより、 前記吐出口を形成するとともに前記レーザ光によって励起されたフッ素含有物質を前記撥水層形成面に付着する工程と、を有することを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。

IPC (4件)：

B41J 2/135 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/16

FI (4件)：

B41J 3/04 103 N ,  B23K 26/00 G ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/16