特許
J-GLOBAL ID：200903047344320030
洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-179097
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037850
出願日： 1993年07月20日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 古い洗浄液と新洗浄液とを交換したときに、新洗浄液が汚染されないように改良された洗浄装置を提供すること。【構成】 当該装置は、新しい洗浄液を蓄える洗浄液タンク1と、洗浄槽2とを備える。洗浄液タンク1に、洗浄液タンク1から洗浄槽2内に新しい洗浄液を供給する第1の洗浄液供給管路3が連結される。洗浄槽2の底部に、古い洗浄液を外部へ排出する排液用管路5が設けられる。洗浄槽2には、古い洗浄液7を排液用管路6へ排出するときに、洗浄槽2の内壁面8aを濡らす湿潤剤を供給する湿潤剤供給手段12,13が設けられる。
請求項（抜粋）：
半導体ウェハを洗浄液で洗浄する洗浄装置であって、洗浄液タンクから供給される洗浄液を収容する洗浄槽と、前記洗浄槽の底部に設けられ、洗浄液を外部へ排出する排液用管路と、前記洗浄液を前記排液用管路を通って排出するときに、前記洗浄槽の内壁面を濡らす湿潤剤を供給する湿潤剤供給手段と、を備えた洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/04
