特許

J-GLOBAL ID：200903047358944177

ガス乾燥装置

発明者： 大見 忠弘 ,  今岡 孝之
出願人/特許権者： 大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-232273
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047736
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 被乾燥物に対し、乾燥しようとする液体をいっさい残さず、被乾燥物表面に自然酸化膜成長等の変質を起こさせず、静電気を発生させず、微粒子付着のない乾燥装置を提供することを目的とする。【構成】 所定のガスを被乾燥物に向けて吹き付けるように構成されたガス乾燥装置において、前記ガスの少なくとも一部に紫外線を照射するための照射手段を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

所定のガスを被乾燥物に向けて吹き付けるように構成されたガス乾燥装置において、前記ガスの少なくとも一部に紫外線を照射するための照射手段を設けたことを特徴とするガス乾燥装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-045125
  
• 特開昭63-014434